電 話：+86-755-83867315| 一億多歐元一臺的設備供不應求，這家荷蘭公司二季度表現(xiàn)亮眼 |
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全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 今日公布 2017 第二季財報。 ASML 第二季營收凈額 (net sales) 21 億歐元，毛利率 (gross margin) 為 45%。在第二季新增 8 臺 EUV 系統(tǒng)訂單，讓 EUV 光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到 27 臺，總值高達 28 億歐元。 預估 2017 第三季營收凈額 (net sales) 約為 22 億歐元，毛利率 (gross margin) 約為 43%。因為市場需求和第二季的強勁財務表現(xiàn)， ASML 預估 2017 全年營收成長可達 25%。 ASML 總裁暨執(zhí)行長溫彼得 (Peter Wennink) 指出 : 「 ASML 今年的主要營收貢獻來自內存芯片客戶，尤其在 DRAM 市場需求的驅動下，這部分的營收預估將比去年成長 50%，而來自邏輯芯片方面的營收也可望成長 15%。除了 DUV 光刻系統(tǒng)的業(yè)務持續(xù)成長，在 EUV 光刻系統(tǒng)部分，未出貨訂單累積金額在第二季已經(jīng)累積到 28 億歐元，顯示不論邏輯芯片和 DRAM 客戶都積極準備將 EUV 導入芯片量產階段?！? 此外， ASML 近年來積極推行系統(tǒng)升級業(yè)務，該部分的營收貢獻可望在今年成長 20%。「綜 合市場和各業(yè)務領域的捷報，我們認為成長動能將延續(xù)到 2018 年，」溫彼得說。
二季度的營收主力，EUV表現(xiàn)亮眼
作為為數(shù)不多的芯片光刻設備供應商，唯一一家EUV設備提供商，ASML在剛過去的一個季度表現(xiàn)非常亮眼，主要體現(xiàn)在以下幾個方面： （1）深紫外光 (DUV)光刻 ASML推出最新浸潤式光刻系統(tǒng) TWINSCAN NXT:2000i，具備多項硬件技術創(chuàng)新，讓客戶得以在 7 奈米和 5 奈米制程節(jié)點上，同時用浸潤式光刻和 EUV 系統(tǒng)進行量產，并達到 2.5 奈米的迭對精度(on-product overlay)。另一方面， 3D NAND 客戶對于KrF 干式光刻系統(tǒng)的需求持續(xù)升高，目前 TWINSCAN XT:860 的未出貨訂單已累積超過20 臺。 TWINSCAN XT:860 系統(tǒng)的生產力可達到每天曝光 5,300 片晶圓。 （2）全方位光刻優(yōu)化方案 (Holistic Lithography) 本季開始出貨最新的 YieldStar 375F 量測系統(tǒng)，具備最新的光學技術，可更快、更精準的獲取量測結果。 （3）極紫外光(EUV)光刻 在荷蘭總部已經(jīng)成功將升級的 EUV 光源整合進 NXE:3400B 系統(tǒng)中，并達成每小時輸出 125 片晶圓的生產力指標。至此， ASML 的 EUV 系統(tǒng)已經(jīng)成功達成所有計劃中的關鍵效能指標，下一階段， ASML 將專注于達成滿足客戶在量產時所需的相關妥善率(availability)指標，并持續(xù)提升系統(tǒng)生產力。 在第二季當中， ASML 也完成了對德國卡爾蔡司(ZEISS)旗下蔡司半導體(Carl Zeiss SMT) 24.9%的股權收購，以進一步深化雙方的策略伙伴關系，共同發(fā)展下一代 EUV 光刻系統(tǒng)。 展望 2017 年第三季， ASML 預估整體銷售凈額可達 22 億歐元，毛利率約落在 43%，其中包含約 3 億歐元的 EUV 營收認列。研發(fā)投資金額提高到 3.15 億歐元，其他收入部份 (包括來自于客戶共同投資計劃的收入)約為 2,400 萬歐元，而管銷費用 (SG&A) 支出則約 1.05 億歐元，年化稅率約 14%。 ASML 預計在第三季會有另外 3 臺 NXE:3400B EUV 光刻系統(tǒng)完成出貨。 ASML：現(xiàn)代芯片不可或缺的支持者
阿斯麥公司ASML Holding NV(NASDAQ:ASML、Euronext:ASML)創(chuàng)立于1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現(xiàn)用名，總部位于荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），全職雇員12,168人，是一家半導體設備設計、制造及銷售公司。 阿斯麥公司為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。 目前全球絕大多數(shù)半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾，三星，海力士，臺積電，聯(lián)電），格芯及其它半導體廠。隨著摩爾定律的發(fā)展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統(tǒng)，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。 ASML的光刻機怎樣幫芯片助力？我們可以看一下ASML官方的介紹： 簡單來說，我們制造的光刻設備是一種投影系統(tǒng)。這個設備由50000個零件組裝而成。 實際使用過程中，則通過激光束被投穿過一片印著圖案的藍圖或光掩模，光學鏡片將圖案聚焦在有著光感化學涂層的硅晶圓上，當未受曝光的部分被蝕刻掉時，圖案隨即顯現(xiàn)…
此制程被一再重復，用以在單個芯片上制造數(shù)以十億計的微型結構。晶圓以2納米的精準度互相疊加，并加速移動，快如閃電，達到這種精確度可謂高科技，要知道，即使頭發(fā)絲也有十萬納米，2納米的精細可想而知。
未來，只有他的EUV光刻機能夠幫助芯片接續(xù)微縮，因此這些設備縱使賣到上億歐元，都能被客戶所接受。 文章來源： http://www.semiinsights.com/25627.html |
