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收藏,半導體一些術語的中英文對照

文章轉至半導體行業(yè)觀察

半導體產(chǎn)業(yè)作為一個起源于國外的技術,很多相關的技術術語都是用英文表述。且由于很多從業(yè)者都有海外經(jīng)歷,或者他們習慣于用英文表述相關的工藝和技術節(jié)點,那就導致很多的英文術語被翻譯為中文之后,很多人不能對照得上,或者不知道怎么翻譯。在這里我們整理一些常用的半導體術語的中英文版本,希望對大家有所幫助。如果當中有出錯,請幫忙糾正,謝謝!

常用半導體中英對照表

離子注入機  ion implanter


LSS理論  Lindhand Scharff and Schiott theory,又稱“林漢德-斯卡夫-斯高特理論”。

溝道效應  channeling effect

射程分布  range distribution

深度分布  depth distribution

投影射程  projected range

阻止距離  stopping distance

阻止本領  stopping power

標準阻止截面  standard stopping cross section

退火  annealing

激活能  activation energy

等溫退火  isothermal annealing

激光退火  laser annealing

應力感生缺陷  stress-induced defect

擇優(yōu)取向  preferred orientation

制版工藝  mask-making technology

圖形畸變  pattern distortion

初縮  first minification

精縮  final minification

母版  master mask

鉻版  chromium plate

干版  dry plate

乳膠版  emulsion plate

透明版  see-through plate

高分辨率版  high resolution plate, HRP

超微粒干版  plate for ultra-microminiaturization

掩模  mask

掩模對準  mask alignment

對準精度  alignment precision

光刻膠  photoresist,又稱“光致抗蝕劑”。

負性光刻膠  negative photoresist

正性光刻膠  positive photoresist

無機光刻膠  inorganic resist

多層光刻膠  multilevel resist

電子束光刻膠  electron beam resist

X射線光刻膠  X-ray resist

刷洗  scrubbing

甩膠  spinning

涂膠  photoresist coating

后烘  postbaking

光刻  photolithography

X射線光刻  X-ray lithography

電子束光刻  electron beam lithography

離子束光刻  ion beam lithography

深紫外光刻  deep-UV lithography

光刻機  mask aligner

投影光刻機  projection mask aligner

曝光  exposure

接觸式曝光法  contact exposure method

接近式曝光法  proximity exposure method

光學投影曝光法  optical projection exposure method

電子束曝光系統(tǒng)  electron beam exposure system

分步重復系統(tǒng)  step-and-repeat system

顯影  development

線寬  linewidth

去膠  stripping of photoresist

氧化去膠  removing of photoresist by oxidation

等離子[體]去膠  removing of photoresist by plasma

刻蝕  etching

干法刻蝕  dry etching

反應離子刻蝕  reactive ion etching,  RIE

各向同性刻蝕  isotropic etching

各向異性刻蝕  anisotropic etching

反應濺射刻蝕  reactive sputter etching

離子銑  ion beam milling,又稱“離子磨削”。

等離子[體]刻蝕  plasma etching

鉆蝕  undercutting

剝離技術  lift-off technology,又稱“浮脫工藝”


終點監(jiān)測  endpoint monitoring

金屬化  metallization

互連  interconnection

多層金屬化  multilevel metallization

電遷徙  electromigration

回流  reflow

磷硅玻璃  phosphorosilicate glass

硼磷硅玻璃  boron-phosphorosilicate glass

鈍化工藝  passivation technology

多層介質(zhì)鈍化  multilayer dielectric passivation

劃片  scribing

電子束切片  electron beam slicing

燒結  sintering

印壓  indentation

熱壓焊  thermocompression bonding

熱超聲焊  thermosonic bonding

冷焊  cold welding

點焊  spot welding

球焊  ball bonding

楔焊  wedge bonding

內(nèi)引線焊接  inner lead bonding

外引線焊接  outer lead bonding

梁式引線  beam lead

裝架工藝  mounting technology

附著  adhesion

封裝  packaging

金屬封裝  metallic packaging

陶瓷封裝  ceramic packaging

扁平封裝  flat packaging

塑封  plastic package

玻璃封裝  glass packaging

微封裝  micropackaging,又稱“微組裝”。

管殼  package

管芯  die

引線鍵合  lead bonding

引線框式鍵合  lead frame bonding

帶式自動鍵合  tape automated bonding, TAB

激光鍵合  laser bonding

超聲鍵合  ultrasonic bonding


紅外鍵合  infrared bonding

微電子辭典大集合

(按首字母順序排序)

A


Abrupt junction 突變結

Accelerated testing 加速實驗 

Acceptor 受主 

Acceptor atom 受主原子 

Accumulation 積累、堆積 

Accumulating contact 積累接觸 

Accumulation region 積累區(qū) 

Accumulation layer 積累層 

Active region 有源區(qū) 

Active component 有源元 

Active device 有源器件 

Activation 激活 

Activation energy 激活能 

Active region 有源(放大)區(qū) 

Admittance 導納 

Allowed band 允帶 

Alloy-junction device

合金結器件 Aluminum(Aluminium) 鋁 

Aluminum – oxide 鋁氧化物 

Aluminum passivation 鋁鈍化 

Ambipolar 雙極的

Ambient temperature 環(huán)境溫度 

Amorphous 無定形的,非晶體的 

Amplifier 功放 擴音器 放大器 

Analogue(Analog) comparator 模擬比較器 Angstrom 埃 

Anneal 退火 

Anisotropic 各向異性的 

Anode 陽極 

Arsenic (AS) 砷 

Auger 俄歇 

Auger process 俄歇過程 

Avalanche 雪崩 

Avalanche breakdown 雪崩擊穿 

 
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